掃(sao)描(miao)電化學顯微鏡(jing)（SECM）

掃描(miao)電化學顯微鏡(jing)（SECM）主(zhu)要功能及(ji)特(te)點

Bsae-SECM 是(shi)壹(yi)套(tao)致(zhi)力(li)於(yu)研(yan)究的掃描(miao)電化學顯微鏡(jing)，技術源(yuan)於(yu)德(de)國(guo)波(bo)鴻(hong)魯爾(er)大(da)學Schuhmann 教授(shou)課題組。Base-SECM 標(biao)準(zhun)配置(zhi)的功能已然十(shi)分強(qiang)大(da)，能滿(man)足絕大(da)多數研(yan)究的需要。在這基礎上(shang)，用戶(hu)還可(ke)以(yi)購(gou)置(zhi)不(bu)同的功能模(mo)塊，以(yi)滿(man)足特(te)殊(shu)的研(yan)究需(xu)要。

·主要技術參(can)數

定(ding)位(wei)系(xi)統：XYZ 步進(jin)控制(zhi)系(xi)統

動(dong)態範圍：25x25x25 mm（其(qi)他(ta)範(fan)圍(wei)可(ke)選(xuan)）

最(zui)大(da)線掃(sao)速率(lv)：10mm/s

分(fen)辨(bian)率：20nm

掃描(miao)模(mo)式

• Feedback Mode 反饋(kui)模(mo)式

• GC Mode 產生(sheng)收(shou)集(ji)模(mo)式

• Direct Mode 直接(jie)模(mo)式

• AC-SECM 微區阻(zu)抗模(mo)式

• 4D 模(mo)式

• Shearforce剪(jian)切力(li)模(mo)式

探針掃(sao)描(miao)：

• 2D 掃描(miao)

• 3D 掃描(miao)

• 等間距掃描(miao)

• 快速等間距掃描(miao)

• 預設掃描(miao)

• 自編(bian)輯(ji)電化學程(cheng)序(xu)掃描(miao)

• 電化學動(dong)力(li)學研(yan)究

• 吸(xi)附/脫附現象和(he)溶(rong)解(jie)過(guo)程的研(yan)究

• 液(ye)/液界面(mian)，液(ye)/氣(qi)界面(mian)，液(ye)/固界面(mian)以(yi)及(ji)重(zhong)要(yao)的生(sheng)物(wu)過(guo)程

• 局(ju)部腐(fu)蝕(shi)過(guo)程觀(guan)測

• 催(cui)化劑(ji)活(huo)性(xing)評(ping)價

• 傳感(gan)器(qi)表(biao)面(mian)活(huo)性(xing)成(cheng)像

• 局(ju)部阻(zu)抗分(fen)析(xi)

• 生(sheng)物(wu)膜酶(mei)活(huo)性(xing)研(yan)究

• 微(wei)納米(mi)尺(chi)度(du)的金屬顆粒(li)沈積(ji)(恒(heng)電流(liu)或無電沈積(ji))

• 在(zai)水(shui)或有機(ji)溶(rong)液(ye)中(zhong)材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)上(shang)導(dao)電聚合(he)物局(ju)部沈積(ji)

• 電化學刻(ke)蝕(shi)

  
  

掃描(miao)電化學顯微鏡(jing)（SECM）應(ying)用領(ling)域

★ 電化學動(dong)力(li)學研(yan)究

★ 吸(xi)附/脫附現象和(he)溶(rong)解(jie)過(guo)程的研(yan)究

★ 液(ye)/液界面(mian)，液(ye)/氣(qi)界面(mian)，液(ye)/固界面(mian)以(yi)及(ji)重(zhong)要(yao)的生(sheng)物(wu)過(guo)程

★ 局(ju)部腐(fu)蝕(shi)過(guo)程觀(guan)測

★ 催(cui)化劑(ji)活(huo)性(xing)評(ping)價

★ 傳感(gan)器(qi)表(biao)面(mian)活(huo)性(xing)成(cheng)像

★ 局(ju)部阻(zu)抗分(fen)析(xi)

★ 生(sheng)物(wu)膜酶(mei)活(huo)性(xing)研(yan)究

★ 微(wei)納米(mi)尺(chi)度(du)的金屬顆粒(li)沈積(ji)(恒(heng)電流(liu)或無電沈積(ji))

★ 在(zai)水(shui)或有機(ji)溶(rong)液(ye)中(zhong)材(cai)料(liao)表(biao)面(mian)上(shang)導(dao)電聚合(he)物局(ju)部沈積(ji)

★ 電化學刻(ke)蝕(shi)

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